| Web of Science® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–22 гг. | |
| Статей | 25425 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 326761 |
| на статью | 12,9 |
| Индекс Хирша | 169 |
| G-индекс | 286 |
| Scopus® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–22 гг. | |
| Статей | 28655 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 364193 |
| на статью | 12,7 |
| Индекс Хирша | 180 |
| G-индекс | 304 |
Академик РАН
Р.А. Сурис
1936-2024
Одним из путей дальнейшей миниатюризации элементов микроэлектроники является использование транзисторов с пленками двумерных материалов в качестве токонесущего канала. Однако предыдущие попытки реализации такого подхода не привели к желаемым результатам из-за большой плотности дефектов на интерфейсе 2D-полупроводник(MoS2) — аморфный диэлектрик. В настоящей работе показана возможность создания перспективных транзисторных структур на основе гетеросистемы MoS2/CaF2 на Si(111). Изготовленные образцы полевых транзисторов демонстрировали первоклассные характеристики (крутизна ~ 90мВ/дек, отношение токов включения/выключения до 107) [1] и достаточную надежность [2]. Это достигнуто за счет ультратонкого слоя кристаллического CaF2 с поверхностью (111), обладающей минимумом свободной энергии (и потому стабильной) и ван-дер-ваальсовым типом связи на границе с 2D-полупроводником, что позволяет выращивать бездефектные слои MoS2 даже при несоответствии параметров решетки полупроводника и флюорита.
Иллюстрации
Рис.1 (а) Условная схема сечения транзистора.(b) TEM изображениео бласти канала вблизи истокового электрода. (с) SEM изображение приборов. (d) Ток стока и туннельная утечка через фторид кальция. Типичные входные(е) и выходные(f) характеристики приборов.
Публикации