| Web of Science® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–24 гг. | |
| Статей | 25425 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 326761 |
| на статью | 12,9 |
| Индекс Хирша | 169 |
| G-индекс | 286 |
| Scopus® | |
|---|---|
| ФТИ в 2000–24 гг. | |
| Статей | 28655 |
| Цитируемость | |
| суммарная | 364193 |
| на статью | 12,7 |
| Индекс Хирша | 180 |
| G-индекс | 304 |
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
| URL: | http://www.elsevier.com/wps/find/journaldescription.cws_home/600849/description#description |
| Сокращенное название по стандарту ISO: | Mater. Sci. Semicond. Process. |
| Сокращенное название по стандарту JCR: | MAT SCI SEMICON PROC |
| Subject Category: | Engineering, Electrical & Electronic |
| Издательство: | ELSEVIER SCI LTD |
| Год основания: | |
| Количество публикаций сотрудников института: | 24 |
| ISSN print: | 1369-8001 |
| Импакт-фактор | Квартиль | Год |
|---|---|---|
| 2000 | ||
| 0.419 | 2001 | |
| 0.608 | 2002 | |
| 0.394 | 2003 | |
| 0.672 | 2004 | |
| 0.884 | 2005 | |
| 1.038 | 2006 | |
| 0.655 | 2007 | |
| 1.158 | 2008 | |
| 0.388 | 2009 | |
| 0.65 | 2010 | |
| 0.753 | 2011 | |
| 1.338 | 2012 | |
| 1.761 | 2013 | |
| 1.955 | 2014 | |
| 2.264 | 2015 | |
| 2.359 | Q2 | 2016 |
| 2.593 | Q2 | 2017 |
| 2.722 | Q2 | 2018 |
| 3.085 | Q2 | 2019 |
| 3.927 | Q1 | 2020 |
| 4.644 | Q2 | 2021 |
| 4.1 | Q2 | 2022 |
| 4.2 | 2023 | |
| 2024 | ||
| 2025 |
| Количество публикаций сотрудников института | Год |
|---|---|
| 1 | 2000 |
| 2 | 2001 |
| 0 | 2002 |
| 0 | 2003 |
| 0 | 2004 |
| 0 | 2005 |
| 5 | 2006 |
| 0 | 2007 |
| 1 | 2008 |
| 0 | 2009 |
| 1 | 2010 |
| 0 | 2011 |
| 0 | 2012 |
| 0 | 2013 |
| 0 | 2014 |
| 2 | 2015 |
| 2 | 2016 |
| 0 | 2017 |
| 1 | 2018 |
| 0 | 2019 |
| 0 | 2020 |
| 1 | 2021 |
| 2 | 2022 |
| 1 | 2023 |
| 4 | 2024 |
| 1 | 2025 |
| 0 | 2026 |